本实用新型涉及玻璃镀膜设备，特别是关于一种大型平板玻璃改进的镀膜生产装置。其特征在于磁控溅射靶设于镀膜室的刚性靶座，镀膜室内设有2根以上分段的加气管；抽气室内设有上下两层隔板。按本方案实施的大型平板玻璃改进的镀膜生产装置，由于将磁控溅射靶装置于刚性靶座、以及在镀膜室内设置了分段的加气管，由此而保证了磁场强度及反应气流分布的均匀一致性，在抽气室内设置的双层隔板有效的防止了“窜气”和反应气流的不稳定性。本实用新型结构合理、性能稳定可靠，具有膜层牢固、均匀，和生产效率高的特点。