一种可用于制备具有成分梯度的薄膜材料的梯度溅射装置

专利权的终止

摘要

本实用新型专利涉及一种用于制备具有成分梯度薄膜材料的溅射装置。装置由真空、电子控制、靶座、溅镀基板和冷却水等系统构成。靶座和溅镀基板处于一个真空腔体中，电子控制系统通过信号线和电源导线分别与靶座系统、溅镀基板系统连接。电子控制系统用于控制基板转速、溅射功率、气体流量、溅射时间、基板温度。靶座系统由主材料靶座、掺杂物靶座、固定板组成。圆形旋转溅镀样品盘转动时，正好使基板位于主材料靶的正上方，转至掺杂物靶时，基板与掺杂物靶呈偏离状对应。主材料靶正对，掺杂物靶偏心的设计，使被溅镀的样品来自主材料靶的成分是均匀的，而圆形旋转溅镀样品盘的径向产生的掺杂物靶的成分呈梯度分布，从而实现掺杂物成分的梯度分布。

基本信息

专利标题：

一种可用于制备具有成分梯度的薄膜材料的梯度溅射装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720008823.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-11-22

授权号：

CN201151740Y

授权日：

2008-11-19

发明人：

李山东刘美梅王大伟李培友程唤龄

申请人：

福建师范大学

申请人地址：

350108福建省福州市仓山区岭后路8号福建师范大学科研处

代理机构：

福州元创专利代理有限公司

代理人：

蔡学俊

优先权：

CN200720008823.4

主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C23C14/34 C23C14/54