纳米陶瓷涂层加工中使用的基体恒温控制系统
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
一种纳米陶瓷涂层加工中使用的基体恒温控制系统，属于材料表面加工技术领域，其特征是它主要由气源(1)、密封罐(2)、液氮(3)、冷却腔(4)组成，液氮(3)罐装在密封罐(2)中，气源(1)连接有进气管(5)，进气管(5)一端的进气口与气源(1)的出气口相连，另一端的出气口插入密封罐(2)中的液氮(3)中；冷却腔(4)连接有出气管(6)，出气管(6)一端的进气口插入密封罐(2)中的液氮(3)的上部，其另一端的出气口与冷却腔(4)的进气口相连，冷却腔(4)直接或间接与基体(7)相接触。本实用新型解决了现有的陶瓷纳米涂层加工装置存在的基体受热变形影响最终涂层质量的问题，具有结构简单，使用、制造方便，成本低的优点。
基本信息
专利标题 ：
纳米陶瓷涂层加工中使用的基体恒温控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720038299.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-06-18
授权号 ：
CN201049964Y
授权日 ：
2008-04-23
发明人 ：
黄因慧田宗军沈理达王东生刘志东
申请人 ：
南京航空航天大学
申请人地址 ：
210016江苏省南京市御道街29号
代理机构 ：
南京天华专利代理有限责任公司
代理人 ：
瞿网兰
优先权 ：
CN200720038299.5
主分类号 ：
C23C24/08
IPC分类号 ：
C23C24/08 G05D23/19
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
法律状态
2009-10-28 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2007618
2008-04-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN201049964Y.PDF
PDF下载
