一种LCD曝光机吸附平台升降缓动装置
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要

本实用新型公开了一种LCD曝光机吸附平台升降缓动装置,包括吸附平台,在吸附平台上方有一光罩玻璃,在吸附平台下方有一固定座板,其特征在于:还包括位于固定座板下方的气缸座板,该固定座板通过多个轴与气缸座板连接,在固定座板和气缸座板之间设有一轴承座板,该轴承座板是套设在所述轴上,该轴承座板通过一连接件与吸附平台连接,在气缸座板上固定有平衡缓冲气缸和升降气缸,轴承座板与一拉回法兰活动连接,拉回法兰与升降气缸的活塞杆紧配,平衡缓冲气缸的平衡活塞杆与轴承座板配合的一端设有弹簧,弹簧与轴承座板紧配。由于采用了上述结构,故本实用新型结构简单、使用寿命长、曝光效果好。

基本信息
专利标题 :
一种LCD曝光机吸附平台升降缓动装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720059782.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-11-20
授权号 :
CN201107545Y
授权日 :
2008-08-27
发明人 :
张光辉
申请人 :
志圣科技(广州)有限公司
申请人地址 :
510850广东省广州市花都区狮岭镇第二工业区利和路6号
代理机构 :
广州市南锋专利事务所有限公司
代理人 :
李永庆
优先权 :
CN200720059782.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-02-10 :
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2008-08-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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