可侦测并显示紫外光强度的转印结构
专利权的终止
摘要
一种可侦测并显示紫外光强度的转印结构，主要是于一基材表面至少设有一转印面，并于该转印面上布设一可感应紫外线光的转印感测层，使该转印感测层可受基材另一侧的压力而黏附于预设物体(或人体)表面，藉由该基材随该外部物体(或人体)的移行，而可侦测并显示周围环境的紫外光状况。
基本信息
专利标题 ：
可侦测并显示紫外光强度的转印结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720064472.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-09-17
授权号 ：
CN201090973Y
授权日 ：
2008-07-23
发明人 ：
黄志勤
申请人 ：
黄志勤
申请人地址 ：
中国台湾台北市松山区南京东路三段256巷30号4楼
代理机构 ：
长沙正奇专利事务所有限责任公司
代理人 ：
何为
优先权 ：
CN200720064472.9
主分类号 ：
G01J1/48
IPC分类号 ：
G01J1/48 G01J1/50 G01J1/58
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法，例如照相的曝光表
G01J1/48
利用化学效应
法律状态
2010-12-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101020686586
IPC(主分类) : G01J 1/48
专利号 : ZL2007200644729
申请日 : 20070917
授权公告日 : 20080723
终止日期 : 20091019
号牌文件序号 : 101020686586
IPC(主分类) : G01J 1/48
专利号 : ZL2007200644729
申请日 : 20070917
授权公告日 : 20080723
终止日期 : 20091019
2008-07-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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