本实用新型公开了一种浸没式光刻系统中的液体供给及回收的密封控制装置。是在浸没光刻系统中的投影透镜组和待曝光硅片之间装有液体供给及回收的密封控制装置。所述的液体供给及回收的密封控制装置，由浸没单元外接管路连接体、浸没单元腔体和浸没单元工作面组成。采用双重气帘密封和双重多孔介质回收方式，密封气体注入和气液混合回收管路都具有缓冲和均压结构，在缝隙流场边界得到流动稳定压差均匀的气流帘，阻止了步进和扫描行程中液体泄漏，同时在液体回收部分，增大的有效工作面积减少了硅片表面的滞留液体。同时有较强的抗气源供给脉动能力。密封气帘厚度小，气源输入功率小，效率高，硅片总体背压减小。