一种应用于溅射系统中的密排尖端阳极，以金属作为基体，其中部镂空，镂空部分的内侧边缘是由若干个尖端体连续排列连接而成，且每个尖端体的尖端朝向镂空部分的中部。在溅射设备中是将密排尖端阳极设置在溅射靶材与样品之间，密排尖端阳极的镂空部分与溅射靶材相对。采用本实用新型的密排尖端阳极的溅射设备，是一种能够应用于平面靶溅射批量化制备YBCO薄膜材料的溅射设备，通过加载本实用新型的密排尖端的阳极，极大地消除负氧离子轰击的影响，满足批量化制备的速度和工艺窗口要求。