湿法工艺监控装置
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
本实用新型的湿法工艺监控装置是利用歧管连接到湿法工艺溶液槽，使得所述湿法工艺的化学溶液流过其中以进行检测。其包含去气泡装置、流体单元、微粒检测器和化学溶液浓度检测器。所述去气泡装置连接到所述歧管，用于将所述化学溶液中的气泡去除，以去除噪声。所述流体单元连接到所述去气泡装置，使得所述化学溶液流通其中。所述微粒检测器用以检测所述流体单元中所述化学溶液的微粒数。所述化学溶液浓度检测器是用以检测流体单元中所述化学溶液的浓度。
基本信息
专利标题 ：
湿法工艺监控装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720310126.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-12-07
授权号 ：
CN201138659Y
授权日 ：
2008-10-22
发明人 ：
林政铭
申请人 ：
先进能源科技有限公司
申请人地址 ：
中国台湾台北市
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
孟锐
优先权 ：
CN200720310126.4
主分类号 ：
H01L21/00
IPC分类号 ：
H01L21/00 H01L21/306
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2010-02-10 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2008-10-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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