一种用于湿法工艺的内部循环装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于湿法工艺的内部循环装置，包括：输入管道，其一端被配置为能够与物料输出管道连接，另一端通过三通管接头与回流管道和输出管道连接；回流管道，其一端通过三通管接头与输入管道连接，另一端被配置为能够与物料罐连接，其中在回流管道中布置有止回阀以用于防止物料在从物料罐到三通管接头的方向上流动；以及输出管道，其一端通过三通管接头与输入管道连接，另一端被配置为能够与湿法工艺设备连接。通过该装置，可以在出现气泡或其它异常情况时将物料回流到物料罐中，从而防止气泡对湿法工艺产生影响。
基本信息
专利标题 ：
一种用于湿法工艺的内部循环装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920673734.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-10
授权号 ：
CN209571394U
授权日 ：
2019-11-01
发明人 ：
丁洋陈章晏郑涛颜超仁
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李镝的
优先权 ：
CN201920673734.4
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/306
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2019-11-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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