具有分散气体的分散板的镀膜装置
专利权的终止
摘要

本实用新型是一种具有分散气体的分散板的镀膜装置,该镀膜装置包括一具有一镀膜室的中空状壳体、一具有多数间隔设置于该镀膜室中的电极板的电极单元、一用以将镀膜气体输送进该壳体的镀膜室中的输气管、一具有一与该镀膜室相连通的泵的抽气单元,以及一邻近所述电极板的底面且具有多数相间隔的分流孔的分散板,所述分流孔涵盖该电极板的底面的大部分面积,借由所述分流孔,让镀膜气体可均匀分布于该镀膜室中,以提高镀膜良率、改善整体镀膜效率。

基本信息
专利标题 :
具有分散气体的分散板的镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720310211.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-12-04
授权号 :
CN201148466Y
授权日 :
2008-11-12
发明人 :
郭铭书
申请人 :
郭铭书;曾盛烘
申请人地址 :
台湾省彰化县彰化市民权路176巷7号
代理机构 :
中国商标专利事务所有限公司
代理人 :
万学堂
优先权 :
CN200720310211.0
主分类号 :
C23C16/44
IPC分类号 :
C23C16/44  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2011-02-16 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101037109096
IPC(主分类) : C23C 16/44
专利号 : ZL2007203102110
申请日 : 20071204
授权公告日 : 20081112
终止日期 : 20100104
2008-11-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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