记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供了一种用于光学信息记录介质的记录膜以及一种光学信息记录介质，所述记录膜具有优异生产率并且也具有优异耐久性(记录保持性)，本发明包括如下：(1)在光学信息记录介质中使用的记录膜，其热导率为0.8W/Kcm或更小，对波长为0.3μm～1.0μm的光的光吸收率为15％或更高，熔融温度为300～800℃，(2)光学信息记录介质，其中记录膜包括如上所述的记录膜，以及(3)用于形成所述记录膜的溅射靶。
基本信息
专利标题 ：
记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101260484A
申请号 ：
CN200810083440.2
公开（公告）日 ：
2008-09-10
申请日 ：
2006-02-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田内裕基中井淳一藤井秀夫井土带刀
申请人 ：
株式会社神户制钢所
申请人地址 ：
日本兵库县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
陈长会
优先权 ：
CN200810083440.2
主分类号 ：
C22C5/06
IPC分类号 ：
C22C5/06 G11B7/243
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C22
冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理
C22C
合金
C22C5/00
贵金属基合金
C22C5/06
银基合金
法律状态
2010-08-11 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003936093
IPC(主分类) : G11B 7/243
专利申请号 : 2008100834402
公开日 : 20080910
号牌文件序号 : 101003936093
IPC(主分类) : G11B 7/243
专利申请号 : 2008100834402
公开日 : 20080910
2008-10-29 ：
实质审查的生效
2008-09-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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