溅射靶及光信息记录介质用薄膜

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本发明涉及一种溅射靶，其中，以硫化锌与由氧化铟、氧化锌及其它三价阳性元素A构成的氧化物为主要成分，相对于全部构成成分的硫的比率为5至30重量％，XRD测定的立方晶系ZnS的(111)峰强度I1与六方晶系ZnS的(100)峰强度I2共存并且满足I1＞I2。本发明的目的在于提供在靶制造时或者通过溅射形成膜时可以防止靶破裂的高强度溅射靶及其制造方法，以及得到最适合作为保护膜使用的光信息记录介质用薄膜及其制造方法。

基本信息

专利标题：

溅射靶及光信息记录介质用薄膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101208451A

申请号：

CN200680022785.6

公开（公告）日：

2008-06-25

申请日：

2006-03-24

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

高见英生矢作政隆

申请人：

日矿金属株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

王海川

优先权：

CN200680022785.6

主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C23C14/34 C04B35/547 C04B35/453 G11B7/26 G11B7/257 G11B7/254

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/00

通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆

C23C14/22

以镀覆工艺为特征的

C23C14/34

溅射

法律状态

2021-04-30 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

IPC(主分类) : C23C 14/34
变更事项 : 专利权人
变更前 : 捷客斯金属株式会社
变更后 : 捷客斯金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京都
变更后 : 日本东京

2017-04-05 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101749682988
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利号 : ZL2006800227856
变更事项 : 专利权人
变更前 : JX日矿日石金属株式会社
变更后 : 捷客斯金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京都
变更后 : 日本东京都

2010-11-10 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101038220781
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利号 : ZL2006800227856
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日矿金属株式会社
变更后权利人 : JX日矿日石金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
登记生效日 : 20100928

2010-06-16 ：

授权

2008-08-20 ：

实质审查的生效

2008-06-25 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

暂无PDF文件可下载