真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置

专利权的终止

摘要

一种真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置，设置于该真空溅镀设备的一反应腔体中，并能使一板状的基材载架正面朝上地倾斜移置于该反应腔体内。该倾斜式基材载送装置包括一支撑设置于该基材载架的一底部的下滚送单元，以及一支撑设置于该基材载架的一背面顶侧处的上滚送单元。本实用新型所述的真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置，能让该基材载架的装载于整体上产生极佳的便利性。

基本信息

专利标题：

真空溅镀设备的倾斜式基材载送装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820007895.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-04-09

授权号：

CN201172687Y

授权日：

2008-12-31

发明人：

黄泳钊郑博仁

申请人：

北儒精密股份有限公司

申请人地址：

中国台湾台南县

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所

代理人：

刘新宇

优先权：

CN200820007895.1

主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C23C14/34

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/00

通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆

C23C14/22

以镀覆工艺为特征的

C23C14/34

溅射

法律状态

2015-05-27 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101611480956
IPC(主分类) : C23C 14/34
专利号 : ZL2008200078951
申请日 : 20080409
授权公告日 : 20081231
终止日期 : 20140409

2008-12-31 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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