共轴四反光学系统
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种共轴四反光学系统，包括主镜(2)、次镜(3)和第三镜(4)，该共轴四反光学系统还包括第四镜(5)；主镜(2)和第三镜(4)位于同一侧，次镜(3)和第四镜(5)位于相对于主镜(2)和第三镜(4)的另一侧，次镜(3)设置在主镜(2)的反射光路上，第三镜(4)设置在次镜(3)的反射光路上，第四镜(5)设置在第三镜(4)的反射光路上。本实用新型提供了一种大视场无遮拦、加工装调便利、畸变校正理想的共轴四反光学系统。
基本信息
专利标题 ：
共轴四反光学系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820029053.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-05-08
授权号 ：
CN201233469Y
授权日 ：
2009-05-06
发明人 ：
马臻李英才李旭阳马洁樊学武
申请人 ：
中国科学院西安光学精密机械研究所
申请人地址 ：
710119陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号
代理机构 ：
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 ：
商宇科
优先权 ：
CN200820029053.6
主分类号 ：
G02B17/06
IPC分类号 ：
G02B17/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/02
反射光系统，例如，影像竖立和倒向系统
G02B17/06
只用反射镜的
法律状态
2012-07-11 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101283512999
IPC(主分类) : G02B 17/06
专利号 : ZL2008200290536
申请日 : 20080508
授权公告日 : 20090506
终止日期 : 20110508
号牌文件序号 : 101283512999
IPC(主分类) : G02B 17/06
专利号 : ZL2008200290536
申请日 : 20080508
授权公告日 : 20090506
终止日期 : 20110508
2009-05-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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