电光控制二维激光光束扫描阵列
专利权的终止
摘要

一种电光控制二维激光光束扫描阵列,其特征是由控制阵列和发射阵列两部分组成,所述的控制阵列是单列的N个电光开关单元构成,所述的发射阵列的结构是由NxM电光开关单元构成的N行M列的矩阵结构,形成N+NxM光束扫描阵列,其中N和M是大于1的正整数,所述的电光开关单元由两个光轴方向不同的第一晶体和第二晶体组合而成:入射光方向沿第一晶体的光轴前进,在第一晶体垂直于光轴的两相对的表面镀金属电极对,以便给该晶体施加横向半波电压;第二晶体为体全息光栅。本实用新型具有体积小、结构紧凑、功耗低、开关速度快、扫描精度高、扫描范围大、控制简单等优点,并可以通过改变出射面的倾角实现发射角度的改变,具有良好的发展前景。

基本信息
专利标题 :
电光控制二维激光光束扫描阵列
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820058690.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-05-21
授权号 :
CN201203740Y
授权日 :
2009-03-04
发明人 :
职亚楠闫爱民刘德安周煜孙建锋刘立人
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
201800上海市800-211邮政信箱
代理机构 :
上海新天专利代理有限公司
代理人 :
张泽纯
优先权 :
CN200820058690.6
主分类号 :
G02F1/29
IPC分类号 :
G02F1/29  G02F1/03  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/29
用于光束的位置或方向的控制,即偏转
法律状态
2011-07-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101091112613
IPC(主分类) : G02F 1/29
专利号 : ZL2008200586906
申请日 : 20080521
授权公告日 : 20090304
终止日期 : 20100521
2009-03-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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