一种用于污水处理MBR工艺的大通量低压膜组件
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
本实用新型提供一种用于污水处理MBR工艺的大通量低压膜组件，该组件是由多个膜片组合而成，所述单个膜片包括有一对膜板，模板的孔径为1－50微米，膜板之间距离为4－6mm，通过膜框架予以支撑形成。所述多个膜片相互平行固定于膜组件支撑上形成膜组件的整体，在所述膜片的上部设有出水孔，出水孔与集水管连通，在膜组件的下部设有向膜组件送气的散气管。本实用新型的效果是使MBR污水处理工艺中膜通量提高1－3倍，能够大大降低膜组件及其配套设备的数量，并完全依靠重力出水，设备投资节省60％，能耗降低50％，并能有效减缓膜的污染速度，降低运行费用。出水能够达到中国目前污水处理厂排放标准GB 18918－2002中的一级A标准，出水中的固体悬浮物指标在8mg/L以下。
基本信息
专利标题 ：
一种用于污水处理MBR工艺的大通量低压膜组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820073657.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-01-14
授权号 ：
CN201172631Y
授权日 ：
2008-12-31
发明人 ：
于洪江杨金凯龙鑫磊史英君
申请人 ：
天津机电进出口有限公司
申请人地址 ：
300040天津市和平区保定道25号
代理机构 ：
天津才智专利商标代理有限公司
代理人 ：
吕志英
优先权 ：
CN200820073657.0
主分类号 ：
C02F3/10
IPC分类号 ：
C02F3/10 C02F3/12 C02F1/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F3/00
水、废水或污水的生物处理
C02F3/02
好氧工艺
C02F3/10
填充物；填料；格栅子
法律状态
2009-10-28 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2008114
2008-12-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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