半导体激光阵列快慢轴光束参数乘积匀称化装置
避免重复授权放弃专利权
摘要

本实用新型是一种半导体激光阵列快慢轴光束参数乘积均匀化装置,属于激光技术应用领域。包括一组半导体激光阵列快慢轴准直微透镜单元、平板玻璃堆A、B和聚焦透镜组。经快慢轴准直微透镜后的光垂直入射到平板玻璃堆A,光束被分割成多份并在各自对应的平板玻璃中产生折射偏移,得到沿激光阵列快轴方向成阶梯形分布的线性光束。此梯形状线性光束再经过平板玻璃堆B,依据相同的光束重组原理,使光束沿阵列慢轴方向产生折射偏移并被进一步重排为线状的线性光束。这样半导体激光阵列发出的光束在快慢轴上有了更加接近的光束参数乘积,即快慢轴方向较平衡的光束质量。最后经过聚焦透镜组的聚焦,得到高功率密度的快慢轴方向均匀的聚焦光斑。

基本信息
专利标题 :
半导体激光阵列快慢轴光束参数乘积匀称化装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820078493.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-11
授权号 :
CN201177692Y
授权日 :
2009-01-07
发明人 :
王智勇许春晓曹银花
申请人 :
北京工业大学
申请人地址 :
100022北京市朝阳区平乐园100号
代理机构 :
北京思海天达知识产权代理有限公司
代理人 :
张慧
优先权 :
CN200820078493.0
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  H01S5/40  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2010-12-08 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101050190973
IPC(主分类) : G02B 27/09
专利号 : ZL2008200784930
申请日 : 20080111
授权公告日 : 20090107
放弃生效日 : 20080111
2009-05-20 :
专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京工业大学
变更后权利人 : 嘉兴大合激光设备有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 北京市朝阳区平乐园100号,邮编 : 100022
变更后 : 浙江省嘉善县魏塘镇成功路128号4幢底层楼,邮编 : 314100
登记生效日 : 20090410
2009-01-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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