基于缺氧-厌氧-氧化沟的化学除磷装置

专利权的终止

摘要

基于缺氧-厌氧-氧化沟的化学除磷装置属于污水处理除磷领域。该装置包括生物除磷部分和化学除磷部分，其中缺氧-厌氧-氧化沟反应器装置包括水箱(1)、缺氧池(5)、厌氧池(6)、曝气池(7)和二沉池(3)组成，化学除磷部分包括设有进水管(21)；回流管(26)，剩余管(27)的化学除磷反应器(19)；其特征在于：厌氧池(6)连接化学除磷反应器(19)，化学除磷反应器(19)的回流管(26)经生物除磷连接氧化沟曝气池(7)。本实用新型增强了缺氧-厌氧-氧化沟法除磷效率，提高了除磷稳定性且不增加较多成本。

基本信息

专利标题：

基于缺氧-厌氧-氧化沟的化学除磷装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820080015.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-04-18

授权号：

CN201261748Y

授权日：

2009-06-24

发明人：

王淑莹侯红勋彭永臻殷芳芳

申请人：

北京工业大学

申请人地址：

100124北京市朝阳区平乐园100号

代理机构：

北京思海天达知识产权代理有限公司

代理人：

刘萍

优先权：

CN200820080015.3

主分类号：

C02F9/14

IPC分类号：

C02F9/14 C02F1/58 C02F3/30