一种直线轨迹扫描成像系统
避免重复授权放弃专利权
摘要

一种直线轨迹扫描成像系统和方法,该成像系统包括:射线发生单元,包含多个射线源,所述多个射线源交替出束,在同一时间只有一个射线源出束;传动装置,用于使检查对象与所述直线轨迹扫描系统沿直线轨迹相对运动,从而使检查对象穿过所述直线轨迹扫描成像系统的扫描区域;数据采集单元,对于每个射线源,分别采集检查对象的投影数据;成像单元,根据对于每个射线源采集的投影数据,重建所述检查对象的图像;显示单元,用于显示重建的图像。通过采用多个按照一定的空间分布排列,并以一定的时间顺序交替出束的射线源,可以以较短的探测器长度获得较大的扫描视角,从而减少系统所需探测器单元数量并缩小被检物体的总扫描距离。

基本信息
专利标题 :
一种直线轨迹扫描成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820080019.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-04-17
授权号 :
CN201242531Y
授权日 :
2009-05-20
发明人 :
张丽刘以农陈志强李元景高河伟邢宇翔赵自然肖永顺
申请人 :
清华大学;同方威视技术股份有限公司
申请人地址 :
100084北京市海淀区清华大学
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
李亚非
优先权 :
CN200820080019.1
主分类号 :
G01N23/04
IPC分类号 :
G01N23/04  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2011-07-06 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101111692327
IPC(主分类) : G01N 23/04
专利号 : ZL2008200800191
申请日 : 20080417
授权公告日 : 20090520
放弃生效日 : 20080417
2009-05-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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