一种消相干和匀场装置
专利权的终止
摘要

本实用新型提供一种消相干匀场装置,包括漫反射板、全反射腔以及匀化透镜。本实用新型利用光束引导装置将待处理光束导向漫反射板,待处理光束经漫反射板漫反射后形成多束散射光。上述多束散射光在全反射腔内以各自不同的传播路径在全反射腔侧壁一次或多次全反射,彼此间的光程差被随机调制,互不相干,因此从全反射腔的出射端口出射的光束为非相干光,然后该非相干光再经过匀化透镜在目标区域形成光照度均匀分布的光束。另外本实用新型还可采取机械手段使得待处理光束在漫反射板上的入射点时刻变换,以提升消相干的效果。

基本信息
专利标题 :
一种消相干和匀场装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820109447.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-07-25
授权号 :
CN201285471Y
授权日 :
2009-08-05
发明人 :
成华毕勇颜世鹏张瑛贾中达
申请人 :
北京中视中科光电技术有限公司;中国科学院光电研究院
申请人地址 :
100094北京市海淀区永丰高新技术产业基地永捷北路3号现代企业加速器B座5层
代理机构 :
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 :
王 勇
优先权 :
CN200820109447.2
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  G02B5/02  G02B1/10  G02B1/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2015-09-09 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101625224915
IPC(主分类) : G02B 27/09
专利号 : ZL2008201094472
申请日 : 20080725
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20140725
2009-08-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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