一种基于散射的消相干匀场装置
专利权的终止
摘要

本实用新型提供一种用于激光的消相干匀场装置,包括中空波导和散射媒质,所述中空波导为密封腔体以容纳所述散射媒质并对所述激光实行传导。本实用新型通过激光在散射媒质中的传播过程中,通过散射媒质对激光发生的瑞利散射将激光分束并利用波导的混光作用将上述分束光进行匀化,最终得到相干性有效降低且照度分布均匀的激光光束。本实用新型的装置可以同时实现消相干和匀场功能,并且激光利用率高、成本低廉、无噪音、不耗电。

基本信息
专利标题 :
一种基于散射的消相干匀场装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820122639.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-09-22
授权号 :
CN201285473Y
授权日 :
2009-08-05
发明人 :
成华毕勇颜世鹏贾中达
申请人 :
北京中视中科光电技术有限公司;中国科学院光电研究院
申请人地址 :
100094北京市海淀区永丰高新技术产业基地永捷北路3号现代企业加速器B座5层
代理机构 :
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 :
王 勇
优先权 :
CN200820122639.7
主分类号 :
G02B27/48
IPC分类号 :
G02B27/48  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/48
激光斑纹光学
法律状态
2015-11-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101632310985
IPC(主分类) : G02B 27/48
专利号 : ZL2008201226397
申请日 : 20080922
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20140922
2009-08-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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