磷光膜、成像组件及检查方法

发明专利申请公布后的驳回

摘要

提供一种适应性强的成像组件(20)。适应性强的成像组件(20)包括配置成接收入射辐射以及发出相应光信号的自立式磷光膜(10)。电子装置(12)耦合到自立式磷光膜(10)。电子装置(12)配置成接收来自自立式磷光膜(10)的光信号并且产生成像信号。还提供一种自立式磷光膜(10)，它包括在聚硅氧烷粘合剂中散布的x射线磷光体颗粒。还提供一种用于检验构件的方法，包括使构件和自立式磷光膜受到辐射(22)，采用自立式磷光膜(10)产生相应光信号(24)，采用耦合到自立式磷光膜(10)的电子装置(12)接收光信号(26)，以及采用电子装置(12)产生成像信号(28)。

基本信息

专利标题：

磷光膜、成像组件及检查方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN102915785A

申请号：

CN201210425509.1

公开（公告）日：

2013-02-06

申请日：

2006-03-23

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

V.马尼范南C.布伊诺S.J.杜克洛斯S.J.斯拓洛萨D.阿尔巴利P.A.麦康尼利

申请人：

通用电气公司

申请人地址：

美国纽约州

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

柯广华

优先权：

CN201210425509.1

主分类号：

G21K4/00

IPC分类号：

G21K4/00 C09K11/02 C09K11/78