利用增强的X射线辐射的成像

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摘要

本发明涉及一种X射线成像装置(2)，其包括：源(4)，其用于生成X射线辐射；对象接收空间(6)，其用于布置感兴趣对象以进行X射线成像；X射线准直器布置(8)，其被布置在源(4)与准直器布置(8)之间；以及X射线反射镜布置(10)。反射镜布置(10)例如包括两个渐缩反射镜(22)，所述两个渐缩反射镜(22)彼此相对并且适合于将源(4)的X射线辐射引导到准直器布置(8)。因此，增加了对象接收空间(6)处的X射线强度。为了将X射线辐射限制到X射线辐射能够用于形成成像的区域，反射镜(22)之间张开角Θm以及每个反射镜(22)的长度LM适于使得由源(4)提供的X射线辐射在反射镜(22)处的全反射次数被限制。该限制提供了全反射的X射线辐射的反射角Θr被限制的效果。因此，增加了对象接收空间(6)处的X射线强度，同时提供了防止在对象接收空间(6)处的X射线辐射的宽度的大的增加的约束，这有效地改善了

基本信息

专利标题：

利用增强的X射线辐射的成像

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN107847200A

申请号：

CN201680041153.8

公开（公告）日：

2018-03-27

申请日：

2016-07-12

授权号：

CN107847200B

授权日：

2022-04-01

发明人：

G·马滕斯E·勒斯尔

申请人：

皇家飞利浦有限公司

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

王英

优先权：

CN201680041153.8

主分类号：

A61B6/00

IPC分类号：

A61B6/00