ESD装置的触点阵列优化
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摘要
一种针对ESD装置(100)的触点阵列优化方案(200)。可在大小、形状、放置等方面选择性地修改穿过有源区域(126/128、134)之上的金属前电介质层(195)图案化的触点孔口(191A/191B)，以在标准ESD评分测试中增加ESD保护性能，例如将瞬变电流密度最大化等。
基本信息
专利标题 ：
ESD装置的触点阵列优化
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109196648A
申请号 ：
CN201680086161.4
公开（公告）日 ：
2019-01-11
申请日 ：
2016-06-30
授权号 ：
CN109196648B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
林和陈昆吴超王德宁L·施普林格A·斯特罗恩薛刚
申请人 ：
德州仪器公司
申请人地址 ：
美国德克萨斯州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
林斯凯
优先权 ：
CN201680086161.4
主分类号 ：
H01L29/06
IPC分类号 ：
H01L29/06
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法律状态
2022-04-15 ：
授权
2019-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 29/06
申请日 : 20160630
申请日 : 20160630
2019-01-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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