用于净化用于EUV光源的靶材料的方法和设备
授权
摘要
一种用于净化用于EUV光源的靶材料的脱氧系统包括炉子，该炉子具有中央区域和用于以均匀方式加热中央区域的加热器。容器被插入炉子的中央区域，并且坩埚设置在容器内。封闭装置覆盖容器的开口端以形成具有真空和压力能力的密封。该系统还包括气体输入管、气体排出管和真空端口。气体供应网络与气体输入管的一端流动连通地耦合，并且气体供应网络与气体排出管的一端流动连通地耦合。真空网络与真空端口的一端流动连通地耦合。还描述了一种用于净化靶材料的方法和设备。
基本信息
专利标题 ：
用于净化用于EUV光源的靶材料的方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108698850A
申请号 ：
CN201780013932.1
公开（公告）日 ：
2018-10-23
申请日 ：
2017-02-09
授权号 ：
CN108698850B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
P·M·鲍姆加特C·拉加古鲁B·A·萨姆斯A·B·里丁格J·K·卡多库斯G·O·瓦申科
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN201780013932.1
主分类号 ：
C01G19/02
IPC分类号 ：
C01G19/02 C22B7/04 C22B25/08 G21K5/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01G
含有不包含在C01D或C01F小类中之金属的化合物
C01G19/00
锡的化合物
C01G19/02
氧化物
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2019-03-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01G 19/02
申请日 : 20170209
申请日 : 20170209
2018-10-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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