用于DUV光源中的逐脉冲波长目标跟踪的波长控制系统
授权
摘要
步进扫描器中的晶片定位误差会导致成像缺陷。改变光源的生成的光的波长可以补偿Z方向上的晶片位置误差。确定晶片的实时z位置，并且将用于抵消该误差的波长目标的变化传送给光源。除了接收新指定的激光波长目标以用于后续激光脉冲突发之外，光源在前馈操作中使用波长目标的这种变化，并且在一个实施例中还结合现有的反馈操作，逐脉冲地针对当前脉冲突发中的后续脉冲。
基本信息
专利标题 ：
用于DUV光源中的逐脉冲波长目标跟踪的波长控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110036331A
申请号 ：
CN201780075020.7
公开（公告）日 ：
2019-07-19
申请日 ：
2017-11-07
授权号 ：
CN110036331B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
R·阿拉瓦特T·P·达菲
申请人 ：
西默有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN201780075020.7
主分类号 ：
G02B26/10
IPC分类号 ：
G02B26/10 H01S3/13
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B26/00
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置，例如，开关、选通或调制
G02B26/08
控制光的方向
G02B26/10
扫描系统
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2019-08-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 26/10
申请日 : 20171107
申请日 : 20171107
2019-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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