带有具有变化轮廓的侧边以实现改善的沉积均匀性的遮蔽框架
授权
摘要
本公开内容的实施方式总体涉及一种遮蔽框架，所述遮蔽框架包括相邻于两个相对的次侧面框架构件的两个相对的主侧面框架构件，用角支架将所述主侧面框架构件与所述次侧面框架构件耦接在一起，其中所述角支架包括具有多个支腿的角镶嵌件，这些支腿在彼此大致上正交的方向延伸。
基本信息
专利标题 ：
带有具有变化轮廓的侧边以实现改善的沉积均匀性的遮蔽框架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111051569A
申请号 ：
CN201880056414.2
公开（公告）日 ：
2020-04-21
申请日 ：
2018-09-14
授权号 ：
CN111051569B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
古田学崔寿永崔弈罗宾·L·蒂纳赵金铉王佳瑞苏希尔·安瓦尔
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201880056414.2
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/458 H01J37/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2020-05-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20180914
申请日 : 20180914
2020-04-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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