本发明提供一种用于清洗硅块的容器、装置及清洗方法，用于清洗硅块的容器包括容器本体，所述容器本体内设有容纳腔，所述容纳腔包括用于放置硅块的清洗区域和该清洗区域之外的用于流通液体和释放反应热的空白区域。所述容器本体上设有与所述容纳腔连通的用于流通液体的第一通孔。根据本发明实施例的用于清洗硅块的容器能够有效的清洗容器内的硅块，可以均匀的清洗框内各硅块的表面，以及硅块与刻蚀液的反应热不能尽快的去除，影响硅块清洗效率和清洗成本的问题，提高了硅块的清洗效果。