钨化学机械抛光组合物
授权
摘要
本发明公开了钨(W)化学机械抛光(CMP)组合物及其相关的方法和系统。所述组合物包含作为催化剂的铁‑配体配合物或金属‑配体配合物以诱导羟基自由基形成，从而提高W膜的氧化速率并提供高且可调节的W膜去除速率。该W化学机械抛光(CMP)组合物可以在宽pH范围内使用，因此提供高度可调节的W:氧化物或阻挡层选择性。所述组合物提供低凹陷和低侵蚀水平。
基本信息
专利标题 ：
钨化学机械抛光组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110616044A
申请号 ：
CN201910528632.8
公开（公告）日 ：
2019-12-27
申请日 ：
2019-06-18
授权号 ：
CN110616044B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
史晓波路春M·L·奥尼尔
申请人 ：
弗萨姆材料美国有限责任公司
申请人地址 ：
美国亚利桑那州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
吴亦华
优先权 ：
CN201910528632.8
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 H01L21/306
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-01-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20190618
申请日 : 20190618
2019-12-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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