晶体微观织构取向的获取装置与获取方法
授权
摘要
针对传统微观织构测试技术（SEM‑EBSD）无法测量大塑性变形样品或纳米晶粒尺度样品微观织构的技术缺点，本发明提供一种基于透射电子显微镜（TEM）的晶体微观织构取向的获取装置与获取方法，所述获取装置由样品切割设备、样品夹持设备、图像采集设备、角度采集设备和计算机组成；所述获取方法能够最终计算获得所测区域的微观织构欧拉角度(φ1,Ф,φ2)。有益的技术效果：本发明可获得测定区域的微观织构，并且可以针对任何大塑性变形样品及纳米尺度样品，能够克服传统扫描电镜背散射衍射技术空间分辨率有限和大应变量样品标定率低的问题。
基本信息
专利标题 ：
晶体微观织构取向的获取装置与获取方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110361404A
申请号 ：
CN201910624897.8
公开（公告）日 ：
2019-10-22
申请日 ：
2019-07-11
授权号 ：
CN110361404B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
张真郭朋彭金华黄继安陈畅王珊吴玉程
申请人 ：
合肥工业大学
申请人地址 ：
安徽省合肥市包河区屯溪路193号
代理机构 ：
合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙兵
优先权 ：
CN201910624897.8
主分类号 ：
G01N23/20058
IPC分类号 ：
G01N23/20058 G01N23/20008
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射，例如，用于测试晶体结构；利用材料辐射的散射，例如测试非晶材料；利用材料辐射的反射
G01N23/20058
通过测量电子衍射，如低能电子衍射法或反射高能电子衍射法
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2019-11-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/20058
申请日 : 20190711
申请日 : 20190711
2019-10-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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