一种偏光层及其制备方法、偏光片以及清洗机
授权
摘要
本发明提供了一种偏光层及其制备方法、偏光片以及清洗机，涉及偏光片技术领域，能够制作出包括透明的非偏光部的偏光片，提高偏光片与显示面板、盖板玻璃等部件的适配性。其中的偏光层，包括偏光部和非偏光部，偏光部和非偏光部为一体结构，偏光部和非偏光部中均包括聚合物，且偏光部中还包括染料。
基本信息
专利标题 ：
一种偏光层及其制备方法、偏光片以及清洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110376673A
申请号 ：
CN201910661554.9
公开（公告）日 ：
2019-10-25
申请日 ：
2019-07-22
授权号 ：
CN110376673B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
杨阳陈立强杨超何强杨恕权庞孟媛
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人 ：
张静尧
优先权 ：
CN201910661554.9
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30 G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2019-11-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20190722
申请日 : 20190722
2019-10-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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