相位恢复成像装置和成像方法
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摘要

一种相位恢复成像装置和成像方法,包括光源、光纤、变焦光纤准直器、聚焦透镜、二维位移平台、第一鱼眼轴承、第二鱼眼轴承、空心管道、样品、二维光电探测器、电脑以及数据采集与处理软件。通过变焦光纤准直器将光束的焦点调节到第一鱼眼轴承的球心处,第一鱼眼轴承作为一个支撑点;第二鱼眼轴承与二维位移平台相连接;通过控制二维位移平台,使激光束绕其焦点转动,样品上的每一个扫描位置都与周围的扫描位置有重叠,从而提高系统的成像分辨率和视场。二维光电探测器用来记录衍射斑,由二维位移平台的位置信息计算出每一幅衍射斑的角度信息,利用迭代成像算法将样品的复振幅分布恢复出来。本发明装置结构简单,相位恢复收敛速度快,成像测量精度高。

基本信息
专利标题 :
相位恢复成像装置和成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110687078A
申请号 :
CN201910822769.4
公开(公告)日 :
2020-01-14
申请日 :
2019-09-02
授权号 :
CN110687078B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
刘诚昌成成董学陶华潘兴臣朱健强
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 :
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张宁展
优先权 :
CN201910822769.4
主分类号 :
G01N21/47
IPC分类号 :
G01N21/47  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/47
散射,即漫反射
法律状态
2022-05-31 :
授权
2020-02-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/47
申请日 : 20190902
2020-01-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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