同步辐射X射线相位衬度CT成像装置及实验方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及计算机断层成像技术领域，特别是一种同步辐射X射线相位衬度CT成像装置及实验方法。装置由单色器晶体、样品转台、分析晶体、电离室和成像探测器组成，样品转台由三个转动和两个平动来组成。同步辐射X射线相位衬度CT成像方法流程，其具体步骤如下：步骤S1，不同成像模式下相位衬度成像条件的确定；步骤S2，相位衬度CT成像实验数据的获取；步骤S3，相位衬度成像实验数据的重建。

基本信息

专利标题：

同步辐射X射线相位衬度CT成像装置及实验方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1965760A

申请号：

CN200510086904.1

公开（公告）日：

2007-05-23

申请日：

2005-11-17

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

吴自玉袁清习王寯越朱佩平黄万霞舒航

申请人：

中国科学院高能物理研究所

申请人地址：

100049北京市石景山区玉泉路19号乙

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

段成云

优先权：

CN200510086904.1

主分类号：

A61B6/03

IPC分类号：

A61B6/03