一种自适应像差校正图像扫描显微成像方法与装置
授权
摘要

本发明涉及一种自适应像差校正图像扫描显微成像方法与装置,属于光学显微测量领域;本发明在图像扫描显微成像方法中引入像差校正系统进行自适应像差校正。在校正前直接利用sCOMS进行全像素预成像,并利用全像素图像形成自适应像差校正评价函数。在校正过程中实时测试图像评价函数,并利用计算机控制像差校正系统进行自适应像差校正。这一过程无须扫描,快速、简单。利用像差校正过程中的评价函数变化重新设定像素重分配过程的参数,优化像素重分配过程。利用残余像差大小来设定激光扫描显微过程中,sCMOS相机有效像元的个数。该方法可有效校正图像扫描显微成像系统的像差,提升像素重分配过程的有效性,最大限度实现图像扫描成像分辨率的提升。

基本信息
专利标题 :
一种自适应像差校正图像扫描显微成像方法与装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110567959A
申请号 :
CN201910874087.8
公开(公告)日 :
2019-12-13
申请日 :
2019-09-17
授权号 :
CN110567959B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
王伟波吴必伟王绍凯谭久彬
申请人 :
哈工大机器人(中山)无人装备与人工智能研究院
申请人地址 :
广东省中山市翠亨新区哈工大机器人集团智能装备产业园(三个五厂房D栋)二楼科创部
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201910874087.8
主分类号 :
G01N21/84
IPC分类号 :
G01N21/84  G01N21/01  G02B21/00  G02B21/36  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2022-05-17 :
授权
2020-01-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/84
申请日 : 20190917
2019-12-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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