一种电磁锅用导磁涂层及其制备方法
授权
摘要
本发明公开了一种电磁锅用导磁涂层及其制备方法。本发明利用真空磁控溅射的方式或多弧离子镀的方式，并优化工艺参数，在锅具表面镀出导磁涂层。本发明成本较低，可连续化生产，对锅体材料无特殊要求，锅体升温较低，温度＜200℃，且制备得到的导磁涂层致密性好，与锅体结合强度高，膜层厚度均匀，表面粗糙度低，无需后续车削或磨削的方式再加工。
基本信息
专利标题 ：
一种电磁锅用导磁涂层及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111020481A
申请号 ：
CN201911182289.2
公开（公告）日 ：
2020-04-17
申请日 ：
2019-11-27
授权号 ：
CN111020481B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
雷雨肖世文周志宏杨永添沈艳斌
申请人 ：
广州市尤特新材料有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市花都区花山镇华侨科技工业园华辉路4号
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
颜希文
优先权 ：
CN201911182289.2
主分类号 ：
C23C14/16
IPC分类号 ：
C23C14/16 C23C14/32 C23C14/35 H01F41/18 H01F41/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
C23C14/16
在金属基体或在硼或硅基体上
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-05-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/16
申请日 : 20191127
申请日 : 20191127
2020-04-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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