过程测量技术传感器
授权
摘要
本发明涉及一种过程测量技术传感器(1)，包括具有传感器头(3)的传感器壳体(2)，其中所述传感器头(3)具有至少一个用于确定被测介质的被测量的传感器元件，所述传感器元件被布置在所述传感器壳体(2)内，并且其中所述传感器(1)具有被布置在所述传感器壳体(2)内的电子测量设备(5)，其中所述传感器壳体(2)在离所述电子测量设备(5)和所述传感器元件一定距离处具有冷凝阱(6、13、14)，所述冷凝阱呈所述传感器壳体(2)的壳体壁的局部区域的形式，该局部区域具有减小的壁厚。
基本信息
专利标题 ：
过程测量技术传感器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111256741A
申请号 ：
CN201911186856.1
公开（公告）日 ：
2020-06-09
申请日 ：
2019-11-28
授权号 ：
CN111256741B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
朱莉安·奥塞弗兰克·韦伯
申请人 ：
恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
申请人地址 ：
德国盖林根
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
蔡石蒙
优先权 ：
CN201911186856.1
主分类号 ：
G01D11/24
IPC分类号 ：
G01D11/24 G01D3/036
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01D
非专用于特定变量的测量；不包含在其他单独小类中的测量两个或多个变量的装置；计费设备；非专用于特定变量的传输或转换装置；未列入其他类目的测量或测试
G01D11/00
非专用于特定变量的测量装置的组件
G01D11/24
外壳
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-07-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01D 11/24
申请日 : 20191128
申请日 : 20191128
2020-06-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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