具有集成传感器的化学机械抛光保持环
授权
摘要
本文中提供一种用于化学机械抛光承载头的保持环，具有用于基板的固定表面。在一些实施方式中，该保持环可以包括具有中央开口的环形主体、被形成在该主体中的通道，其中该通道的第一端邻近该中央开口；以及被设置在该通道内并邻近该第一端的传感器，其中该传感器配置为检测来自在该基板上进行的工艺的声波及/或振动发射。
基本信息
专利标题 ：
具有集成传感器的化学机械抛光保持环
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111421468A
申请号 ：
CN201911325272.8
公开（公告）日 ：
2020-07-17
申请日 ：
2015-05-28
授权号 ：
CN111421468B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
西蒙·亚沃伯格
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201911325272.8
主分类号 ：
B24B49/16
IPC分类号 ：
B24B49/16 B24B37/005 B24B37/32 B24B49/00 B24B57/02 H01L21/306
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B49/00
用于控制磨具或工件进给运动的测量或校准装置；指示或测量装置的布置，如用于指示磨削加工开始的
B24B49/16
考虑负荷
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-08-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 49/16
申请日 : 20150528
申请日 : 20150528
2020-07-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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