用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构，包括靶拖，靶拖安装面内凹形成用于卡装靶板的安装凹槽，在靠近所述安装凹槽拐角处的安装凹槽短边上设置有横向定位结构、安装凹槽长边上设置有纵向定位结构。本实用新型结构简单，实现了靶板的精确定位，规范了靶板放置动作过程，实现了MALDI‑TOF工作过程中靶板的自由更换，降低了人为因素的干扰，保证了样品的正常检测，降低了仪器的故障率。
基本信息
专利标题 ：
用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920452213.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-04
授权号 ：
CN209374399U
授权日 ：
2019-09-10
发明人 ：
宋家玉蔡克亚刘伟伟李康康张子奇王晓龙刘文钊易玲李闯
申请人 ：
安图实验仪器（郑州）有限公司
申请人地址 ：
河南省郑州市经济技术开发区第十五大街199号
代理机构 ：
郑州异开专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
王霞
优先权 ：
CN201920452213.6
主分类号 ：
H01J49/16
IPC分类号 ：
H01J49/16 H01J49/26
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J49/00
粒子分光仪或粒子分离管
H01J49/02
零部件
H01J49/10
离子源；离子枪
H01J49/16
用表面电离的，如场致发射、热发射或光电发射
法律状态
2019-09-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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