一种电解抛光和残余应力检测一体装置
授权
摘要
本实用新型属于试样残余应力检测技术领域，公开一种电解抛光和残余应力检测一体装置，包括X射线衍射系统、检测头、工作平台、抛光液回收装置、防腐蚀冲水装置、横向伺服电机、纵向伺服电机、夹具装置、样件、在线电解抛光系统，所述X射线衍射系统的检测头下方放置有固定样件的工作平台，所述工作平台上设有横向伺服电机、纵向伺服电机，所述工作平台通过横向伺服电机、纵向伺服电机和滚珠丝杠驱动横向、纵向移动；所述工作平台上设有固定样件的夹具装置；所述工作平台一侧设有在线电解抛光系统；所述在线电解抛光系统设有抛光液回收装置和防腐蚀冲水装置。实现了X射线衍射检测残余应力，电解抛光和液体回收为一体。
基本信息
专利标题 ：
一种电解抛光和残余应力检测一体装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920476272.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-10
授权号 ：
CN209779037U
授权日 ：
2019-12-13
发明人 ：
许明三张正曾寿金黄旭王涛
申请人 ：
福建工程学院
申请人地址 ：
福建省福州市闽侯县大学城福建工程学院机械与汽车工程学院
代理机构 ：
北京市科名专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
陈朝阳
优先权 ：
CN201920476272.7
主分类号 ：
C25F3/16
IPC分类号 ：
C25F3/16 C25F7/00 G01L1/25 G01L5/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2019-12-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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