一种旋转机构及垂直扩散炉
授权
摘要
本实用新型涉及一种旋转机构及垂直扩散炉，所述垂直扩散炉包括所述旋转机构，旋转机构包括：底座；驱动机构，设于底座上；隔离罩，设于底座上并罩设驱动机构；支撑机构，设于隔离罩的外部；传动磁组，包括第一磁体和第二磁体，第一磁体设置在隔离罩内，第二磁体设置在支撑机构上；悬浮磁组，包括第三磁体和第四磁体，第三磁体设置于隔离罩上，第四磁体设置于支撑机构上；第一磁体被驱动机构驱动旋转时，第二磁体与第一磁体相吸设置而使支撑机构随第一磁体同步旋转，第三磁体和第四磁体相斥设置而使支撑机构及第二磁体悬浮在隔离罩的外部。本实用新型的优点在于，利用磁体的特性实现旋转动力的传递，避免污染反应腔室的同时具有价格低廉的优势。
基本信息
专利标题 ：
一种旋转机构及垂直扩散炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920519980.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-16
授权号 ：
CN209947815U
授权日 ：
2020-01-14
发明人 ：
雷国鸿陈伯廷吴宗祐林宗贤
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN201920519980.4
主分类号 ：
H01L21/687
IPC分类号 ：
H01L21/687 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
H01L21/687
使用机械装置的，例如卡盘、夹具或夹子
法律状态
2020-01-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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