在半导体处理中用于衬底的真空固持器
著录事项变更
摘要

本实用新型涉及一种在半导体处理中用于具有不同尺寸的板状衬底的真空固持器。所述真空固持器包括固持板、底板和侧壁,所述侧壁在其侧处或在边界区域中连接所述底板和所述固持板。所述固持板具有完全穿透所述固持板的多个抽吸孔。所述固持板具有前侧和后侧,其中所述底板被布置成与所述固持板的所述后侧相对。抽空容积形成于所述固持板与所述底板之间,真空可提供于所述抽空容积中。至少一个分离壁布置于所述抽空容积中,将所述抽空容积分离成彼此气密地分离的至少两个抽空容积室。所述真空固持器进一步包括至少两个真空入口。此外,至少一个弹性密封元件形成于所述固持板的所述前侧上。

基本信息
专利标题 :
在半导体处理中用于衬底的真空固持器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920595587.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-28
授权号 :
CN209447778U
授权日 :
2019-09-27
发明人 :
彭寿丹尼尔·梅诺斯巴斯蒂安·希普欣迈克尔·哈尔付干华殷新建
申请人 :
中国建材国际工程集团有限公司;CTF太阳能有限公司
申请人地址 :
上海市普陀区中山北路2000号中期大厦27层
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
余明伟
优先权 :
CN201920595587.3
主分类号 :
H01L21/683
IPC分类号 :
H01L21/683  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2019-11-08 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 21/683
变更事项 : 发明人
变更前 : 彭寿 丹尼尔·梅诺斯 巴斯蒂安·希普欣 迈克尔·哈尔 付干华 殷新建
变更后 : 彭寿 殷新建 丹尼尔·梅诺斯 巴斯蒂安·希普欣 迈克尔·哈尔 傅干华
2019-09-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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