一种气体弧光放电装置以及与真空腔体的耦合系统
授权
摘要
本实用新型提供一种气体弧光放电装置以及与真空腔体的耦合系统，利用热阴极电子发射原理与辅助阴极进行配合产生等离子体，通过该装置的磁场模块与腔体轴向磁场模块耦合进行等离子体渗氮。通过控制气体弧光放电装置与腔体轴向磁场的参数进行耦合，选取最佳磁场参数，增加真空腔体内等离子体能量及密度，获得最佳的渗氮效果。利用本实用新型的装置，对316L奥氏体不锈钢进行60min等离子体渗氮处理，渗氮层的硬度可以达到1100HV0.05,渗氮深度可以达到50μm上，渗氮层中无氮化物析出，且渗氮层为单一的γN相，保证了渗氮工件的高硬度和高耐磨损性能。
基本信息
专利标题 ：
一种气体弧光放电装置以及与真空腔体的耦合系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920626317.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-30
授权号 ：
CN210030866U
授权日 ：
2020-02-07
发明人 ：
刘兴龙蔺增
申请人 ：
泰安东大新材表面技术有限公司;东北大学
申请人地址 ：
山东省泰安市高新区配天门大街1608号
代理机构 ：
济南圣达知识产权代理有限公司
代理人 ：
吕薇
优先权 ：
CN201920626317.4
主分类号 ：
C23C8/38
IPC分类号 ：
C23C8/38
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
C23C8/38
黑色金属表面的处理
法律状态
2020-02-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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