本实用新型涉及一种新型喷镀装置，包括壳体，以及设置在壳体内的样品台，所述的样品台设置在旋转机构上，所述的样品台下端还设置有加热机构，所述样品台的上端还设置有一喷头，所述的喷头上设置有多个喷孔，所述的喷孔的孔径为0.05‑1mm，所述的喷头通过高压气流管道输入高纯氮气或高压氮气，所述的高压气流管道还通过进料管道与进料筒连通。本实用新型结构简单，实用性强，不仅可以用于实验，也可以用于工业生产，同时制备纳米点、晶须、纳米薄膜；本实用新型通过高压将前驱体溶液均匀喷涂在衬底上，并且通过旋转机构，保证喷涂的均匀性；本实用新型通过电磁加热线圈可实现薄膜的快速分解、固化，从而提高薄膜的制备效率。