光场强度检测系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种光场强度检测系统,光场强度检测系统包括待测光场产生装置、分离装置以及检测装置。首先,通过介质颗粒对待测光场进行散射,从而实现电场分量和磁场分量的同步表征;然后,通过波导薄膜对散射光中的电场信号和磁场信号进行不同激发角度的辐射,从而对散射光中的电场信号和磁场信号进行分离;最后,采集电场信号和磁场信号,并且生成相应的电场强度分布图和磁场强度分布图。通过实现待测光场中的电场信号和磁场信号的同步表征,拓展了光场信息表征的维度,促进了人们对光场本质的认识,也提供了新的光场信息获取手段,因此,在纳米尺度下的光与物质相互作用以及超分辨信息处理等研究领域有十分重要的应用价值。
基本信息
专利标题 :
光场强度检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920661726.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-09
授权号 :
CN210242983U
授权日 :
2020-04-03
发明人 :
杨爱萍杜路平孟繁斐袁小聪
申请人 :
深圳大学
申请人地址 :
广东省深圳市南山区南海大道3688号
代理机构 :
深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙)
代理人 :
袁文英
优先权 :
CN201920661726.8
主分类号 :
G01J1/00
IPC分类号 :
G01J1/00 G01J1/42
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法,例如照相的曝光表
法律状态
2020-04-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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