双加热装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种烤胶用加热装置，尤其是一种双加热装置，属于MEMS的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案，所述双加热装置，包括加热支撑壳体、设置于所述加热支撑壳体上的下加热盘以及与所述加热支撑壳体铰接的防护罩，在所述防护罩内设置能吸附硅片的上加热盘以及能对上加热盘上硅片加热的上加热器；在加热支撑壳体内设置下加热器，防护罩压盖在加热支撑壳体上时，上加热盘能与下加热盘正对应，通过上加热器、下加热器能对上加热盘与下加热盘之间的硅片的两面同时进行加热。本实用新型结构紧凑，采用双层加热的形式，能有效提高烤胶的均匀性，便于实现后期刻蚀中获得更好地线宽，使用方便，安全可靠。
基本信息
专利标题 ：
双加热装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920687186.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-14
授权号 ：
CN209624976U
授权日 ：
2019-11-12
发明人 ：
王云翔冒薇段仲伟马冬月许爱玲李晓帅祝翠梅姚园
申请人 ：
苏州美图半导体技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园A7-506
代理机构 ：
南京思拓知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
苗建
优先权 ：
CN201920687186.0
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2019-11-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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