一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备
授权
摘要
本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备。基板后处理设备包括基板清洗模块和基板干燥模块，基板干燥模块包括存储装置。存储装置包括存储主体、第一管路、第二管路和第三管路，存储主体具有分别与管路气密连接的第一连接口、第二连接口和第三连接口；第一管路用于向存储主体内通入气体以增加存储主体内的压力；第二管路气密连接于压力检测部；第三管路气密连接于处理液供给管和排出管，供给管和排出管分别设置有独立的开关组件，使得可以通过第三管路向存储主体内加入处理液或从存储主体排出处理液。
基本信息
专利标题 ：
一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920691174.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-14
授权号 ：
CN210535627U
授权日 ：
2020-05-15
发明人 ：
赵德文李长坤路新春
申请人 ：
清华大学
申请人地址 ：
北京市海淀区清华园1号
代理机构 ：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 ：
张建纲
优先权 ：
CN201920691174.5
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-05-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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