一种擦拭装置、涂抹机构及设备，包括驱动件、偏摆机构和活动板；驱动件用于驱动偏摆机构以带动活动板偏摆；偏摆机构具有至少两间隔设置的曲轴，至少两曲轴的一端由驱动件驱动转动以带动至少两曲轴的另一端同步同向循环或者往复偏摆，至少两曲轴的另一端用于带动活动板偏摆，各曲轴的另一端均偏向曲轴的同一侧；活动板的下端设置有用于对待擦拭面进行擦拭的擦拭盘；本实用新型提供的擦拭装置相对于直接移动擦拭盘进行擦拭而言，擦拭面更宽，擦拭效率更高；同时相对于仅通过一个转轴带动活动板而言稳定性更好，便于保证擦拭过程中擦拭盘与待擦拭面之间抵压力度均匀，从而有利于提高擦拭效率和使用效果。