擦拭设备

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摘要

本实用新型涉及清洁设备技术领域，公开了一种擦拭设备，包括机架；放料平台，设置于机架上，放料平台用于承载基材；擦拭机构，设置于机架上，擦拭机构包括擦拭头和柔性擦拭体传送机构，擦拭机构能够沿X轴、Y轴以及Z轴方向相对于放料平台移动；及固定组件，设置于机架上或放料平台上，固定组件被配置为将基材固定于放料平台上。该擦拭设备能够使擦拭头对基材进行局部擦拭；固定组件设置于机架上或放料平台上，通过固定组件能够将基材固定在放料平台上，在擦拭头进行局部擦拭时，避免基材的移动，提高了擦拭效果。

基本信息

专利标题：

擦拭设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022239621.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-10

授权号：

CN213558591U

授权日：

2021-06-29

发明人：

谢伟枫

申请人：

深圳市光羿科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区新安街道上合社区33区大宝路83号美生慧谷科技园3.5.6栋美谷5栋一楼

代理机构：

北京品源专利代理有限公司

代理人：

潘登

优先权：

CN202022239621.9

主分类号：

B08B1/00

IPC分类号：

B08B1/00