一种抗反射膜
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摘要
一种抗反射膜。本实用新型是为了解决现有抗反射膜存在采用干式涂布等复杂工艺，生产效率低，生产成本较高，不适于推广应用等问题。技术要点：特征是由透明基膜、附着在所述透明基膜上的硬化层和附着在所述硬化层上的低折射层构成，所述硬化层中设置有折射率为2.1‑2.5的纳米金属氧化物颗粒，所述低折射层中设置有粒径为30‑60nm的空心二氧化硅颗粒，所述硬化层的厚度为0.5‑3μm，所述低折射层的厚度为80‑120nm。
基本信息
专利标题 ：
一种抗反射膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920796696.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-30
授权号 ：
CN210803757U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
陆龙翔魏金龙陈岫江
申请人 ：
汕头万顺新材集团股份有限公司
申请人地址 ：
广东省汕头市濠江区汕头保税区万顺工业园
代理机构 ：
汕头新星专利事务所
代理人 ：
林希南
优先权 ：
CN201920796696.1
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 G02B1/111
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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