一种双层透明电磁屏蔽膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种双层透明电磁屏蔽膜，包括：透明基底；第一屏蔽层，其堆叠设置在所述透明基底的上表面，或其嵌设于所述透明基底的上表面，其包括有第一网格状凹槽，和由填充于所述第一网格状凹槽内的电屏蔽材料或者磁屏蔽材料形成的第一屏蔽结构；第二屏蔽层，其堆叠设置在所述第一屏蔽层的上表面，包括有第二网格状凹槽，和由填充于所述第二网格状凹槽内的磁屏蔽材料或者电屏蔽材料形成的第二屏蔽结构；其中，所述第一屏蔽层和第二屏蔽层的屏蔽功能不同。与现有技术相比，本实用新型提供了一种双层透明电磁屏蔽膜，采用双层屏蔽层，在不降低透光率的同时，可达到电屏蔽和磁屏蔽的双重屏蔽效果。另外，比单层屏蔽膜的屏蔽效能更好。
基本信息
专利标题 ：
一种双层透明电磁屏蔽膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920868928.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-11
授权号 ：
CN210432328U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
基亮亮刘麟跃周小红
申请人 ：
苏州维业达触控科技有限公司;苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 ：
苏州简理知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱亦倩
优先权 ：
CN201920868928.X
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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